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在真空環(huán)境下對高速等離子體鍍層過程反射率的實時監(jiān)測是光譜學測量的一項應用。
Avantes對在真空環(huán)境下測量有著豐富的經(jīng)驗,并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。這些技術經(jīng)常用于點檢測等復雜的過程控制監(jiān)控。可以對一個峰值或一定的波長范圍進行監(jiān)測,以檢測出一個在過程結束時光譜偏移帶來的拐點。在進行高真空(~10-3 torr)和超高真空(~10−9 torr)測量時,需要特別注意所選用的光譜儀和光纖。Avantes對在真空環(huán)境下測量有著豐富的經(jīng)驗,并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。